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超聲波清洗系統的精密光學

指定用于精密光學的超聲波清潔系統需要建立光學清潔要求的光學制造商與提供設備和化學品以滿足這些要求的公司的工程師之間的密切合作。 指定清潔設備和程序不是本文的目的。 相反,我們的目標是提供Elmasonic設備清潔眼科光學的概述。

其設備范圍廣泛,從單個清洗罐到完全自動化的多級洗滌 - 干洗清潔線,在潔凈室。 我們將簡要介紹為模具制造到清潔檢查和涂層清潔等特定功能配制的清潔化學品。

支持清潔光學的其他設備包括水處理廠,過濾系統,溶劑處理設備和層流空氣流模塊以支持潔凈室。

除了為設備和化學品提供這些介紹之外,我們的職責是讓您與清潔眼科光學設備**聯系,并根據需要進行跟蹤,以確保您的規格得到滿足。

清潔精密光學簡介

基本清潔和沖洗系統

該Elmasonic的X TRA的Flex線 ,可作為一個單一的洗滌裝置的Flex 1,并與隨行清洗機作為一個Flex 2系統都共用一個支撐架。 該系統設計用于水性清潔溶液。 清洗和沖洗槽配備提供±2cm垂直振蕩,一種技術證明大大增強清洗行動。 這些單元可以在雙頻模式下購買,25/45 kHz或35/130 kHz。 清潔和漂洗籃可以放置在水箱上方的特殊支架上,從而有效地滴出液體。 **多可以容納5個用戶定義的清潔程序。

X-tra Flex Line配備了加熱器和定時器,除去新鮮清洗溶液中的夾帶空氣的脫氣模式,以及在浴缸中均勻分配清洗能量的掃描模式。 可選配的泵過濾器可幫助延長清洗槽的使用壽命。 沖洗罐可以配備使用城市或去離子水的淋浴沖洗站。 該生產線有5個罐容量,從8.5到44加侖不等。

手動和自動精密光學清潔線

上述X-tra Flex Line可以通過結合一個或多個清洗和沖洗站,然后在Elma X-tra Pro配置中的干燥站進行擴展。 這些單元可以在開始時組合或當需要時添加。 它們可以配備以支持在清潔,沖洗和干燥站之間手動運輸產品,或者通過觸摸屏管理的自動清潔,沖洗和干燥,以控制和監控處理和運輸。

用溶劑清洗光學產品

當使用易燃溶劑去除保護漆時,需要使用特殊設計的超聲波清洗器。 Elmasonic X-tra LSM設計用于閃點等于或高于55℃的溶劑,例如NEP(N-乙基-2-吡咯烷酮)或NMP(N-甲基-2-吡咯烷酮)。 它們具有防止爆炸性氣體形成的內置保護,并且可選配有可選的溶劑冷卻系統,以減少蒸汽的產生。 雙頻(25或45 kHz)X-tra LSM單元應在通風良好的區域工作,理想情況下配備排氣系統和滅火系統。

配件設備

  • 如上所述,溶劑回收系統可用于通過分離出可溶性污染物來延長溶劑壽命
  • 容量為每小時100**2500升的水處理廠
  • 泵和過濾器單元,用于從清潔溶液和沖洗水中去除微粒
  • 層流模塊,以產生潔凈室條件
  • 干燥器可以指定為過濾循環熱空氣或紅外線

清潔溶液的精密光學

除了上述溶劑之外,還有可生物降解的水基清潔溶液,以支持精密光學制造的每個階段 - 用于形成光學器件的光學器件和模具。 它們的范圍從中性到輕度和強堿性。 雖然將為特定過程開發特定的清潔程序,這里是水性清潔劑的幾個實例:

  • 中性清潔濃縮物elma clean 320是專為精密光學眼鏡使用軟化水去除灰塵,指紋和其他輕微的有機和無機污染物。
  • 中性泡沫抑制elma清潔260浸漬和噴濺從超聲波清潔劑或噴霧中去除玻璃表面的油,指紋和灰塵。
  • 在使用有機和無機高精度光學玻璃之前,使用弱堿性elma clean 310進行清潔,以去除灰塵,指紋,輕油和油脂以及樹脂殘留物。
  • 弱堿性elma tec清潔劑A1用于精細清潔玻璃基板,玻璃和光學組件。
  • 堿性elma clean 300設計用于在涂覆有機和無堿玻璃以及**終模具清潔之前進行清潔。 它可以去除灰塵,指紋,油漬和油脂痕跡。